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기술분야 | 과제명 |
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전기ㆍ전자 - 반도체소자및 시스템 | 3파장 레이저의 선택적 어닐링을 통한 3nm 노드 이하 3DIC 로직 집적공정용 핵심요소기술 개발 |
전기ㆍ전자 - 반도체소자및 시스템 | sub-10 nm DRAM 커패시터 구현을 위한 고유전박막/전극 계면 분석 기술, 계면 제어 소재 및 공정 기술 개발 |
전기ㆍ전자 - 반도체소자및 시스템 | 저조도 감도 개선을 위한 계층형 컬러필터 개발 |
전기ㆍ전자 - 반도체소자및 시스템 | SWIR 대역 이미지 센서 개발 |
전기ㆍ전자 - 반도체장비 | 공정제어를 위한 와전류 센서와 고감도 표면압력 측정센서를 포함한 차세대 화학-기계적 연마 및 차세대 화학-기계적 연마 소재 및 공정 기술 개발 |
기계ㆍ소재 - 나노ㆍ마이크로 기계시스템 | 감염균 세포 신속, 다중, 고감도 검출을 위한 압타머-나노구조체 기반의 전기화학 및 광학센서 개발 |
전기ㆍ전자 - 반도체장비 | Ion Beam을 이용한 Critical Dimension 제어기술 개발 |
전기ㆍ전자 - 반도체소자및 시스템 | 초박막 channel FET 기반 4D 적층용 2T-0C DRAM 소자 개발 |
기계ㆍ소재 - 금속재료 | In-situ 결함분석을 통한 고품위 MX2 소재 및 공정기술 개발 |
전기ㆍ전자 - 반도체소자및 시스템 | 수직 적층형 cell 트랜지스터 공정 개발을 통한 3차원 DRAM 개발 방향 제시 |